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SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統，專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案，針對10英寸晶圓片。
UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。
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