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目前在半導體技術領域中，科學家試圖利用極微量的氧氣對薄膜表面進行去毛刺工藝，如果氧氣量過大，將可能把整個薄膜“吃掉"，氧氣量小但不穩定，則影響到成品的品質和重復性。這對RTP在微量氣體的混氣控制上提出了極大的挑戰。
實現常壓下千分之一的氣體分壓。即反應氣體和保護氣氛的常壓配比為1比1000。一般實現氣體配比的方法是使用質量流量控制器（MFC），對兩種氣體的流量進行精確控制，例如配比為3：2時，兩個質量流量計的流量分別調整為600sccm和400sccm，這時氣體配比就可以實現3：2的配比。
但是，當兩種氣體的配比非常懸殊的時候，就產生兩個問題，首先是大量程MFC的誤差絕對值超過了小量程氣體MFC本身的量，使得配比的重復性和精確度變差。即使使用進口的MFC也不能幸免。其次，由于一方氣體流量過小，會使流量大的一方的氣體阻止或倒灌到流量小的氣路中，從而無法保證反應氣體進入反應室內。
北京東之星應用物理研究所首先采用精確的壓力控制使壓力與流量有效的配合，同時委托MFC廠家以東之星*的送氣控制方式定制了MFC。從而有效的防止了大配比氣體（一般是氮氣）的倒灌和阻塞。才實現了高精確度的千分之一氣體配比。
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